EM13LD 系列是采用量拓科技的測(cè)量技術(shù)，針對(duì)普通精度需求的研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的多入射角激光橢偏儀。

EM13LD系列采用半導(dǎo)體激光器作為光源，可在單入射角度或多入射角度下對(duì)樣品進(jìn)行準(zhǔn)確測(cè)量?？捎糜跍y(cè)量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k；也可用于同時(shí)測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k；亦可用于實(shí)時(shí)測(cè)量納米薄膜動(dòng)態(tài)生長(zhǎng)中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)了納米薄膜的相對(duì)厚度測(cè)量。

EM13LD系列采用了量拓科技多項(xiàng)技術(shù)。

特點(diǎn)：

次納米的高靈敏度

采樣方法、穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的制造工藝實(shí)現(xiàn)并保證了能夠測(cè)量極薄納米薄膜，膜厚精度可達(dá)到0.5nm。

3秒的快速測(cè)量

水準(zhǔn)的儀器設(shè)計(jì)，在保證精度和準(zhǔn)確度的同時(shí)，可在3秒內(nèi)快速完成一次測(cè)量，可對(duì)納米膜層生長(zhǎng)過(guò)程進(jìn)行測(cè)量。

簡(jiǎn)單方便的儀器操作

用戶只需一個(gè)按鈕即可完成復(fù)雜的材料測(cè)量和分析過(guò)程，數(shù)據(jù)一鍵導(dǎo)出。豐富的模型庫(kù)、材料庫(kù)方便用戶進(jìn)行高測(cè)量設(shè)置。

應(yīng)用：

EM13LD系列適合于普通精度要求的科研和工業(yè)環(huán)境中的新品研發(fā)或質(zhì)量控制。

EM13LD系列可用于測(cè)量單層或多層納米薄膜層構(gòu)樣品的薄膜厚度、折射率n及消光系數(shù)k；可用于同時(shí)測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k；可用于實(shí)時(shí)測(cè)量快速變化的納米薄膜的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。

EM13LD可應(yīng)用的納米薄膜領(lǐng)域包括：微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽(yáng)電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁質(zhì)存儲(chǔ)、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等?？蓱?yīng)用的塊狀材料領(lǐng)域包括：固體（金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等），或液體（純凈物或混合物）。

技術(shù)指標(biāo):

項(xiàng)目	技術(shù)指標(biāo)
儀器型號(hào)	EM13 LD/635 (或其它選定波長(zhǎng))
激光波長(zhǎng)	635 nm (或其它選定波長(zhǎng)，高穩(wěn)定半導(dǎo)體激光器)
膜厚測(cè)量重復(fù)性（1）	0.5nm (對(duì)于平面Si基底上99nm的SiO2膜層)
折射率測(cè)量重復(fù)性（1）	5x10-3(對(duì)于平面Si基底上99nm的SiO2膜層)
單次測(cè)量時(shí)間	與測(cè)量設(shè)置相關(guān)，典型3s
大的膜層范圍	透明薄膜可達(dá)990nm 吸收薄膜則與材料性質(zhì)相關(guān)
光學(xué)結(jié)構(gòu)	PSCA（Δ在0°或180°附近時(shí)也具有的準(zhǔn)確度）
激光光束直徑	2mm
入射角度	40°-90°可手動(dòng)調(diào)節(jié)，步進(jìn)5°
樣品方位調(diào)整	Z軸高度調(diào)節(jié)：±6.5mm 二維俯仰調(diào)節(jié)：±4° 樣品對(duì)準(zhǔn)：光學(xué)自準(zhǔn)直和顯微對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
樣品臺(tái)尺寸	平面樣品直徑可達(dá)Φ170mm
大外形尺寸	887 x 332 x 552mm (入射角為90º時(shí))
儀器重量（凈重）	25Kg
選配件	水平XY軸調(diào)節(jié)平移臺(tái)，真空吸附泵
軟件(ETEM)	* 中英文界面可選 * 多個(gè)預(yù)設(shè)項(xiàng)目供快捷操作使用 * 單角度測(cè)量/多角度測(cè)量操作和數(shù)據(jù)擬合 * 方便的數(shù)據(jù)顯示、編輯和輸出 * 豐富的模型和材料數(shù)據(jù)庫(kù)支持

注：(1)測(cè)量重復(fù)性：是指對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點(diǎn)、同一條件下連續(xù)測(cè)量30次所計(jì)算的標(biāo)準(zhǔn)差。

性能保證:

穩(wěn)定性的半導(dǎo)體激光光源、采樣方法，保證了穩(wěn)定性和準(zhǔn)確度

高精度的光學(xué)自準(zhǔn)直系統(tǒng)，保證了快速、高精度的樣品方位對(duì)準(zhǔn)

穩(wěn)定的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、可靠的樣品方位對(duì)準(zhǔn)，結(jié)合采樣技術(shù)，保證了快速、穩(wěn)定測(cè)量

分立式的多入射角選擇，可應(yīng)用于復(fù)雜樣品的折射率和相對(duì)厚度的測(cè)量

一體化集成式的儀器結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使得系統(tǒng)操作簡(jiǎn)單、整體穩(wěn)定性提高，并節(jié)省空間

一鍵式軟件設(shè)計(jì)以及豐富的物理模型庫(kù)和材料數(shù)據(jù)庫(kù)，方便用戶使用

可選配件：

NFS-SiO2/Si二氧化硅納米薄膜標(biāo)片

NFS-Si3N4/Si氮化硅納米薄膜標(biāo)片

VP01真空吸附泵

VP02真空吸附泵

樣品池